适用范围：本文件规定了光气及光气化产品生产装置的规划布局、设计、生产运行、应急处置及使用双光气与三光气进行光气化产品生产的安全要求。 本文件适用于光气及光气化产品生产，以及使用双光气、三光气进行光气化产品生产的新建、扩建、改建和在役装置。

适用范围：本文件规定了硝酸铵生产企业在设计等方面基本要求，以及生产、储存、应急处置环节的安全要求。本文件适用于硝酸铵生产企业的生产、储存、应急处置的安全管理。 本文件不适用于港口经营、民用爆炸物品、国防科研生产。

适用范围：本文件描述了测定纳米多孔材料储氢量的静态容量气体吸附的方法。本文件适用于以物理吸附储氢的碳材料、沸石、金属有机框架材料、多孔有机聚合物等纳米多孔材料储氢量的测定。其他多孔材料储氢量的测定也可参照使用。

适用范围：本文件描述了常规分析中确认静态二次离子质谱正离子相对强度标的重复性和一致性的方法。本文件适用于安装有荷电中和电子枪的仪器，不用于校正强度随质量变化的响应函数，校正可由仪器制造厂商或其他机构进行。本文件提供数据以确认仪器使用时的相对强度一致性，提供可影响一致性的一些仪器参数的设置指南。

适用范围：本文件规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的峰强度测量的分析结果报告中所要求的必要信息，也提供了峰强度测量方法和导出的峰面积不确定度的信息。

适用范围：本文件描述了用于测量扫描电容显微镜（scanning capacitance microscope，SCM）或扫描扩展电阻显微镜（scanning spreading resistance microscope，SSRM）空间（横向）分辨的方法，该方法涉及使用锐边的器件。这2种显微镜广泛应用于半导体器件的载流子分布成像和其他电学特性的测量。

适用范围：本文件描述了表述X射线光电子能谱仪特定性能参数的方法。

适用范围：本文件提供了采用辉光放电发射光谱法(Glow discharge optical emission spectrometry，以下简称GDOES，)进行深度剖析和体相分析的指南。本文件仅限于讨论刚性固体样品的分析，不包括粉末、气体或溶液的分析。结合现有和将来特定的标准方法，本文件旨在能够实现仪器的规范管理和测量条件的控制。尽管近年来有不同类型的辉光放电发射光源问世，但目前绝大多数使用直流和射频光源的辉光放电光谱设备仍以空心阳极的Grimm型为主。然而不同于最初Grimm型光源阴极接触样品正面的设计，一些光源的阴极接触常置于样品背面，例如Marcus型光源。本文件包含的条款同样适用于上述 2种和其他类型的光源，Grimm型光源仅作为一个实例。

适用范围：本文件规定了利用透射电子显微镜（TEM）测量金属薄晶体中位错密度的设备、试样、测定方法、数据处理、测定结果的不确定度和试验报告。本文件适用于测定晶粒内不高于1×1015m-2的位错密度。也适用于测量几十纳米至几百纳米厚度金属薄晶体试样中单个晶粒内的位错密度。

适用范围：本文件描述了用于最高等级几何量测量的扫描探针显微镜（SPM）扫描轴的表征和校准方法，适用于提供进一步校准的测量系统，而不适用于校准等级需求较低的一般工业应用。 本文件旨在： ——通过对长度单位溯源，提高SPM几何量测量结果的可比性； ——明确校准程序及验收条件的最低要求； ——确认被校准仪器的能力（赋予仪器“校准能力”所属的类别）； ——规定校准的范围（测量及环境条件、测量范围、时间稳定性、通用性）； ——根据ISO/IEC Guide 98-3，提供模型来计算SPM测量中简单几何量的不确定度； ——规定报告结果的要求。

适用范围：本文件规定了煤化工废水处理与回用的基本要求、废水类别和技术要求。本文件适用于以煤为原料，经过煤气化或煤液化过程制取燃料和化工产品所产生废水处理与回用的技术指导。

适用范围：本文件界定了表面化学分析中通用术语和谱学领域中的术语，附录A给出了非表面分析专业的部分常用术语。

适用范围：本文件给出了在数据表、分析证书、涉及制备用于表面化学分析时纳米物体处理的报告或其他出版物中应报告的信息。这些信息对于确保促进应用这些材料的研究和技术所需的分析可靠性和再现性是必需的，并获得对可能的纳米物体环境和生物影响的恰当理解。这些信息除了其他与样品的合成、加工历史及表征有关的详细资料外，并宜成为有关材料来源和其自产生以来发生的变化的数据记录（有时被确认为源信息）的一部分。 本文件包括了资料性附录。附录总结了与纳米物体相关的挑战性问题，强调了需要在材料数据记录中加强文件化和报告（见附录A）,并提供了通常从用于表面化学分析的溶液中提取颗粒的方法示例（见附录B）。相关样品数据的示例集展示于附录C。 本文件未规定确保所描述的分析测量得到恰当实施所需的仪器类型或操作程序。

适用范围：本文件描述了采用辉光放电质谱法（GDMS)测量锗酸铋（BGO)晶体中杂质元素的方法。本文件适用于BGO晶体材料中除氢和惰性气体元素以外的其他杂质元素含量的测定，测定范围为0.001 μg/g~1 000 μg/g（质量分数)。通过合适的标准样品校正，也适用于测量质量分数大于1 000 μg/g的杂质元素含量。

适用范围：本文件界定了表面化学分析领域扫描探针显微术方面的术语，并给出了相关缩略语清单(见附录A)。 本文件适用于表面化学分析中扫描探针显微术相关的教学、科研、设计、制造、编写相关技术文件和书刊及技术交流。

适用范围：本文件描述了五种原子力显微术探针悬臂梁法向弹性常数的测量方法，测量的精度误差为5%~10%。每个方法分别隶属于尺寸法、静态实验法和动态实验法三类方法中的一种。方法的选择取决于分析所要达到的目的，便易性及现有的仪器条件。 本文件不适用于高于5%～10%的测量精度，如要获得高于5%~10%的测量精度，需要使用本文件未提及的更高精度的方法进行测量。

适用范围：本文件描述了分析人员利用全反射X射线荧光(TXRF)仪器开展水样测量的化学方法。根据良好的操作实践，本方法具有确定的准确度和精密度。本文件适用于开展大量样品常规分析且按照ISO/IEC 170251)运作的实验室。 本文件描述了水(例如，饮用水、地表水、地下水)中溶解性元素含量的测定方法。考虑到特定和额外发生的干扰，按照本方法也能测定废水和洗脱液中的元素。本文件不包括采样、稀释和预浓缩方法。 本方法能测定的元素会随着仪器X射线源的改变而发生变化。本文件未涉及健康、安全和商业因素。 测量范围取决于样品基体和遇到的干扰。对于饮用水和相对未被污染的水，大多数元素的定量限介于0.001 mg/L~0.01 mg/L。测量范围通常介于0.001 mg/L~10 mg/L的浓度区间，取决于测量元素和预先设定的要求。 附录B给出了钼靶X射线源、Ga作为校准内标时的TXRF分析水样的完整方法验证示例。 大多数元素的定量限会受到空白污染的影响，且主要依赖于所使用的实验室空气处理设施以及试剂的纯度和实验器具的清洁程度。

适用范围：本文件描述了用氩气吸附静态容量法测定石墨烯粉体比表面积的方法。 本文件适用于测定具有Ⅱ型(分散的、无孔或大孔)和Ⅳ型(介孔，孔径2 nm~50 nm)吸附等温线的石墨烯粉体的比表面积。含有少量微孔、吸附等温线呈现出Ⅱ型和Ⅰ型相结合或Ⅳ型和Ⅰ型相结合的石墨烯粉体的比表面积测定亦适用。其他类型的碳基纳米材料，如碳纳米管、碳纤维、多孔炭等比表面积的测定参照使用。

适用范围：本文件规定了化工园区开发建设总体要求、选址、规划、建设、评价与评估。本文件适用于新设立及扩区的化工园区的开发建设。

适用范围：本文件描述了用阿贝折射仪和全自动折光率仪测定液体化工产品折光率的方法。本文件适用于透明或半透明、温度范围在20 ℃～60 ℃、折光率范围在1.300 0～1.700 0的液体化工产品的测定。