GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 24578-2015 Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
国家标准
中文简体
现行
页数：12页
|
格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2015-12-10
实施日期
2017-01-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-
发布历史
-
2009年10月
-
2015年12月
-
2024年07月
研制信息
- 起草单位：
- 有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心
- 起草人：
- 孙燕、李俊峰、楼春兰、潘紫龙、朱兴萍
- 出版信息：
- 页数：12页 | 字数：23 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS77.040
H17
中华人民共和国国家标准
/—
GBT245782015
代替/—
GBT245782009
硅片表面金属沾污的全反射
X光荧光光谱测试方法
Testmethodformeasurinsurfacemetalcontaminationonsiliconwafers
g
btotalreflectionX-Rafluorescencesectrosco
yyppy
2015-12-10发布2017-01-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
发布
中国国家标准化管理委员会
/—
GBT245782015
前言
本标准按照/—给出的规则起草。
GBT1.12009
本标准代替/—《硅片表面金属沾污的全反射光荧光光谱测试方法》。
GBT245782009X
/—,:
本标准与GBT245782009相比主要变化如下
———,、,、、
扩大了标准
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