适用范围：本文件描述了平板显示器基板玻璃密度、应力、杨氏模量、剪切模量、泊松比和维氏硬度的测试方法。 本文件适用于平板显示器基板玻璃的设计、制造和测试。

适用范围：本文件描述了平板显示器偏光片尺寸、厚度、翘曲度、剥离力、直角度、吸收轴、铅笔硬度、撕膜静电、水接触角的测试方法。 本文件适用于平板显示器用偏光片的设计、生产及测试。

适用范围：本文件描述了印制板用铜箔外观、尺寸、物理性能、工艺性能及其他性能的试验方法。 本文件适用于刚性或挠性印制板用铜箔的测试。

适用范围：本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。 本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。

适用范围：本文件规定了锂离子电池正、负极材料一般生产流程中的节能设计、设备设施节能、电极材料生产能耗、节能技术评价方式等技术要求。 本文件适用于磷酸铁锂、镍钴锰酸锂、镍钴铝酸锂、钴酸锂、锰酸锂等锂离子电池用主流正极材料以及天然石墨、人造石墨等主流锂离子电池负极材料的生产节能管理、节能诊断、节能监测等。

适用范围：本文件描述了打印显示薄膜均匀性的测试方法，主要包括子像素均匀性、相邻子像素均匀性、短程均匀性测试方法。 本文件适用于使用探针式表面轮廓仪（以下称台阶仪)和白光干涉仪对厚度范围为5 nm~105 nm的打印显示薄膜均匀性的测试。

适用范围：本文件规定了半导体行业用电子级正硅酸乙酯的技术要求、检验规则、型式试验、标志、包装、运输及贮存的要求,描述了试验方法、分析方法与测定结果评价。本文件适用于沉积二氧化硅的电子级正硅酸乙酯。

适用范围：本文件规定了一氧化碳的技术要求、采样、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存的要求。本文件适用于工业级一氧化碳经纯化制备的电子用一氧化碳。

适用范围：本文件描述了用硫氰酸盐标准溶液滴定法测定太阳能电池用银浆中银含量的方法。本文件适用于太阳能电池用银浆，包括符合YS/T 612的正面银浆和背面银浆，测定范围为银含量(质量分数)30%~95%。其他导电银浆(例如微电子技术用贵金属浆料)和制作银浆的原料银粉等材料参照使用。注： 参照使用本文件方法测定银粉的银含量(质量分数)时，测定范围上限为99%。

适用范围：本文件描述了平板显示用彩色光刻胶光学性能中色度、辉度和对比度三项指标的测试方法。本文件适用于平板显示用彩色光刻胶的制造、质量控制以及研发工作。

适用范围：本文件给出了点扫描法测定平板显示器基板玻璃应力的试验原理，描述了点扫描法的试验装置、试验条件、试样要求、试验步骤、结果表示、试验报告。本文件适用于厚度为0.3 mm~1.1 mm、规格为11代及以下的平板显示器基板玻璃应力测试，其他玻璃材料参考使用。

适用范围：本文件规定了羰基硫的技术要求、采样、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。本文件适用于一氧化碳与硫为原料合成制备的电子用羰基硫。

适用范围：本文件规定了二氧化碳的技术要求、采样、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。本文件适用于由高纯二氧化碳经纯化制备的电子用二氧化碳。

适用范围：本文件描述了平板显示用彩色光刻胶可靠性中耐化学性能、耐溶剂冲击性能和显影液中溶解性能三项指标的测试方法。注： 平板显示用彩色光刻胶的可靠性指标主要包括耐化学性能、耐溶剂冲击性能和显影液中溶解性能。本文件适用于平板显示用彩色光刻胶的制造、质量控制以及研发工作。

适用范围：本文件描述了平板显示用彩色光刻胶理化性能中固含量、黏度和后烘残膜率三项指标的测试方法。本文件适用于平板显示用彩色光刻胶的制造、质量控制以及研发工作。

适用范围：本文件描述了单体液晶纯度、最大杂质、易挥发分、电阻率、水分含量和金属离子浓度的测试方法。本文件适用于单体液晶的生产研发、检验检测和应用验证等。

适用范围：本文件描述了平板显示阵列用正性光阻材料的测试方法。 本文件适用于液晶显示器件、有机发光显示器件等显示阵列制造用正性光阻材料的性能测试。

适用范围：本文件规定了厚膜集成电路用银钯导体浆料的产品分类、技术要求、检验方法、检验规则及包装、标志、运输、贮存。本文件适用于由导电相、玻璃相、有机载体以及添加剂组成的能满足印刷特性的厚膜集成电路用银钯导体浆料(以下简称：银钯导体浆料)。