GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
GB/T 40279-2021 Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
国家标准
中文简体
现行
页数：9页
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格式：PDF
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
现行
发布日期
2021-08-20
实施日期
2022-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。本文件适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15 nm～105 nm。
发布历史
-
2021年08月
研制信息
- 起草单位：
- 有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技(上海)有限公司、开化县检验检测研究院
- 起草人：
- 徐继平、宁永铎、卢立延、孙燕、张海英、由佰玲、潘金平、李扬、胡晓亮、张雪囡、楼春兰、盘健冰
- 出版信息：
- 页数：9页 | 字数：18 千字 | 开本： 大16开
内容描述
ICS77.040
CCSH21
中华人民共和国国家标准
/—
GBT402792021
硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法
—
Testmethodforthicknessoffilmsonsiliconwafersurface
Oticalreflectionmethod
p
2021-08-20发布2022-03-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—
GBT402792021
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准
SACTC203
化技术委员会材料分技术委员会(//)共同提出并归口。
SACTC203SC2
定制服务
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