GB/T 13388-1992 硅片参考面结晶学取向Ｘ射线测量方法
GB/T 13388-1992 Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
基本信息
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
发布日期
1992-02-19
实施日期
1992-10-01
发布单位/组织
国家技术监督局
归口单位
-
适用范围
-
发布历史
-
1992年02月
-
2009年10月
研制信息
- 起草单位：
- 北京有色金属研究总院
- 起草人：
- 高玉
- 出版信息：
- 页数：5页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开
内容描述
UDC669.782-172-415=620.179.152
H216B
中华人民共和国国家标准
GB/t13388—92
硅片参考面结晶学取向X射线
测量方法
国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页
Methodformeasuringcrystallographic
orientationofflatsonsinglecrystalsiliconslices
andwafersbyX-raytechniques
1992-02-19发布1992-10-01实施
中华人民共和国国家标准
硅片参考面结晶学取向X射线
测量方法GB/T13388-92
Methodformeasuringcrystallographic
orientationofflatsonsinglecrystalsiliconslices
andwafersbyX-raytechniques
1主题内容与适用范围
本标准规定了用X射线技术测量硅片参考面结晶学取向的方法。
本标准适用于硅片参考面结晶学取向与参考面规定取向之间角度偏差的测量。硅片宜径为50~
125mm,参考面长度为10~50mm。
本标准不适用于硅片规定取向在与参考面和硅片表面相
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