国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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现行译:SJ/T 11864-2022 Monocrystalline Silicon Carbide Narrow Bandgap Semiconductor Substrate (Half-Insulator)【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2022-10-20 | 实施时间: 2023-01-01收藏
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现行译:SJ/T 11865-2022 φ150mm n-type silicon carbide substrate for power devices【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2022-10-20 | 实施时间: 2023-01-01收藏
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现行译:SJ/T 11698-2018 Electroless solder joint analysis method: Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy【国际标准分类号(ICS)】 :71.040.40化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H13重金属及其合金分析方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2018-02-09 | 实施时间: 2018-04-01收藏
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现行译:SJ/T 11630-2016【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11631-2016 The testing method for surface defects of silicon wafers used in solar cells【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11632-2016 Testing method for micro-crack defects in silicon wafers used in solar cells【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11627-2016 The online testing method for the resistivity of silicon wafers used in solar cells【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11628-2016 The online testing methods for silicon wafer size and electrical characterization for solar cells【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11629-2016 Online photoluminescence analysis method for silicon wafers and cell modules used in solar cells【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H21金属物理性能试验方法发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2016-04-05 | 实施时间: 2016-09-01收藏
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现行译:SJ/T 11552-2015 Using Brewster angle to measure the content of silicon interstitial oxygen using P-polarized radiation and infrared absorption spectroscopy【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-10-10 | 实施时间: 2016-04-01收藏
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现行译:SJ/T 11502-2015【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11500-2015【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11497-2015 The test method for thermal stability of gallium arsenide wafers【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11495-2015 Silicon interstitial oxygen conversion factor guideline【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11503-2015 The method for testing the surface roughness of a single-crystal silicon carbide polishing slice【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11493-2015 The method of secondary ion mass spectrometry for measuring the nitrogen concentration in a silicon substrate【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H82元素半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11505-2015 Ruby monocrystal polishing specification【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11496-2015【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11492-2015 The determination of composition of phosphorus-gallium-arsenic wafers using photoluminescence method【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏
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现行译:SJ/T 11487-2015 Non-contact method for measuring the resistivity of semi-insulating semiconductor wafers【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-SJ)行业标准-电子 | 发布时间: 2015-04-30 | 实施时间: 2015-10-01收藏