适用范围：本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容-电压测量方法。本标准测试的硅外延层的厚度必须大于测试偏压下耗尽层的深度。本标准也可适用于硅抛光片的载流子浓度测量。

适用范围：本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。它们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维。 分子式：O2。 相对分子质量：31.998 8（按2005年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺。 分子式：N2O。 相对分子质量：44.012 8（按2005年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了半导体材料及其生长工艺、加工、晶体缺陷和表面沾污等方面的主要术语和定义。 本标准适用于元素和化合物半导体材料。

适用范围：本标准采用红外光谱法测定硅晶体中间隙氧含量径向的变化。本标准需要用到无氧参比样品和一套经过认证的用于校准设备的标准样品。 本标准适用于室温电阻率大于0.1 Ω·cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5Ω·cm的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。 本标准测量氧含量的有效范围从1×1016 at·cm-3至硅晶体中间隙氧的最大固溶度。

适用范围：本标准规定了用光学投影仪测量硅片直径的方法。本标准适用于测量圆形硅片的直径，可测最大直径为300 mm。本标准不适用于测量硅片的不圆度。

适用范围：本标准规定了电子工业用磷化氢的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。 分子式：PH3。 相对分子质量：33.99758（按2005年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3。 相对分子质量：67.805（按2005年国际相对原子质量计算）。

适用范围：本标准规定了港口轮胎起重机（以下简称起重机）的产品分类及基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于港口装卸件杂货及散货用的轮胎起重机。

适用范围：本标准适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3。 相对分子质量：17.031（按2005年国际相对原子质量）。