GB/T 43725-2024 直写成像式曝光设备
GB/T 43725-2024 Direct writing imaging exposure equipment
基本信息
发布历史
-
2024年03月
文前页预览
研制信息
- 起草单位:
- 合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司
- 起草人:
- 何少锋、陈新、邱醒亚、乔书晓、沈桂珍、朱颖、陈黎阳、方林、曲鲁杰、许静平、陈东、崔良端、陆培良、吴怡然、曹可慰、赵俊莎、李香滨、严孝年、鲁男、李娜、李照辉、吴新民
- 出版信息:
- 页数:20页 | 字数:29 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS31.260
CCSL97
中华人民共和国国家标准
/—
GBT437252024
直写成像式曝光设备
Directwritinimainexosureeuiment
gggpqp
2024-03-15发布2024-10-01实施
国家市场监督管理总局
发布
国家标准化管理委员会
/—
GBT437252024
目次
前言…………………………Ⅲ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4分类与结构………………3
5技术要求…………………4
6测试方法…………………8
7检验规则…………………11
、、、…………
8标识标志包装运输和贮存12
9产品随机文件……………13
Ⅰ
/—
GBT437252024
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)提出并归口。
SACTC203
:、、
本文件起草单位合肥芯碁微电子装备股份有限公司广州兴森快捷电路科技有限公司安徽省工
、、、、
业和信息化研究院深南电路股份有限公司四创电子股份有限公司中国电子技术标准化研究院合肥
、、。
矽迈微电子科技有限公司深圳市克洛诺斯科技有限公司深圳拜波赫技术有限公司
:、、、、、、、、、、
本文件主要起草人何少锋陈新邱醒亚乔书晓沈桂珍朱颖陈黎阳方林曲鲁杰许静平
、、、、、、、、、、、。
陈东崔良端陆培良吴怡然曹可慰赵俊莎李香滨严孝年鲁男李娜李照辉吴新民
Ⅲ
/—
GBT437252024
直写成像式曝光设备
1范围
、、、、、
本文件规定了直写成像式曝光设备的分类与结构技术要求检验规则标志包装运输和贮存及
,,、、、
产品随机文件的要求描述了测试方法包括试验一般条件外观和尺寸检查性能测试安全性测试和
噪声测试。
、、、、
本文件适用于印制电路板及集成电路封装基板用直写成像式曝光设备的设计研发验证制造使
用及检验等过程。
2规范性引用文件
。,
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
,;,()
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
本文件。
/包装储运图示标志
GBT191
/:
图形符号安全色和安全标志第部分产品安全标签的设计原则
GBT2893.22
/声学声压法测定噪声源声功率级和声能量级采用反射面上方包络测量面的简
GBT3768
易法
/:
电声学声级计第部分规范
GBT3785.11
/—:
机械电气安全机械电气设备第部分通用技术条件
GBT5226.120191
/运输包装收发货标志
GBT6388
/标牌
GBT13306
/机电产品包装通用技术条件
GBT13384
/运输包装件尺寸与质量界限
GBT16471
/—、:
机械电气安全指示标志和操作第部分标志要求
GBT18209.220102
/—电子组装技术术语
SJT106682023
3术语和定义
/—界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
SJT106682023
3.1
空间光调制器satiallihtmodulator
pg
、、。
采用光反射电光相互作用声光相互作用等方式改变光传播方向或能量分布的器件
3.2
直写成像式曝光directwritinimainexosure
gggp
、()。
利用激光二极管发光二极管或其他光源通过空间光调制器3.1进行光束扫描的技术
3.3
分辨率resolution
,。
在光学曝光成像中一种曝光设备或一种光致抗蚀剂等感光材料所能产生清晰图像的最小图形尺寸
1
推荐标准
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