GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
GB/T 28274-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design
                        国家标准
                                                中文简体
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                        格式:PDF
                    
                基本信息
标准类型
                        国家标准
                        标准状态
                        现行
                    发布日期
                        2012-05-11
                        实施日期
                        2012-12-01
                    发布单位/组织
                        中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
                        归口单位
                        全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
                    适用范围
                        本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
                    本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
发布历史
- 
                            2012年05月
研制信息
- 起草单位:
- 北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学
- 起草人:
- 张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇
- 出版信息:
- 页数:11页 | 字数:19 千字 | 开本: 大16开
内容描述
                                                        暂无内容
                                                    
                    
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