GB/T 30701-2014 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

GB/T 30701-2014 Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy

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基本信息

标准号

GB/T 30701-2014

发布历史

2014年06月

GB/T 30701-2014　表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

当前标准现行 2014-06-09

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研制信息

起草单位：: 中国计量科学研究院

起草人：: 王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星

出版信息：: 页数：20页 | 字数：31 千字 | 开本：大16开

内容描述

ICS71.040.40

G04

中华人民共和国国家标准

/—/:

GBT307012014ISO173312004

表表面化学分析硅片工作标准样品表面

元素的化学收集方法和全反射射线

荧光光谱法()测定

TXRF

—

SurfacechemicalanalsisChemicalmethodsforthecollectionofelements

fromthesurfaceofsilicon-waferworkinreferencematerialsandtheir

()

determinationbtotal-reflectionX-rafluorescenceTXRFsectrosco

yyppy

(:,)

ISO173312004IDT

2014-06-09发布2014-12-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

/—/:

GBT307012014ISO173312004

前言…………………………Ⅲ

引言…………………………Ⅳ

1范围………………………1

2规范性引用文件…………………………1

3术语和定义………………1

4缩略语……………………2

5试剂………………………2

6仪器设备…………………5

7试样制备及其测量环境…………………5

8校准试样的制备…………………………6

9绘制校准曲线……………7

/……………………

10工作标准样品上铁和或镍的收集8

/……………

11工作标准样品上所收集铁和或镍的测定9

12精密度……………………9

13测试报告…………………9

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