国际标准分类(ICS)
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译：GB/T 14141-1993 Test method for sheet resistance of silicon epitaxial, diffused and ion-implanted layers using a collinear four-probe array【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏 -
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译：YY 0114-1993【国际标准分类号(ICS)】 ：暂无 【中国标准分类号(CCS)】 ：暂无发布单位或类别：(CN-YY)行业标准-医药 | 发布时间： 1993-02-10 | 实施时间： 1993-05-01收藏
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译：GB/T 14143-1993 300～900μm Silicon slices—Measuring of interstitial oxygen content—Infrared absorption method【国际标准分类号(ICS)】 ：31.200集成电路、微电子学 【中国标准分类号(CCS)】 ：H26金属无损检验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏
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译：YY/T 0110-1993 Medical ultrasonic piezoelectric ceramic material【国际标准分类号(ICS)】 ：暂无 【中国标准分类号(CCS)】 ：暂无发布单位或类别：(CN-YY)行业标准-医药 | 发布时间： 1993-02-10 | 实施时间： 1993-05-01收藏
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译：GB/T 14142-1993 Test method for crystallographic perfection of epitaxial layers in silicon by etching techniques【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H26金属无损检验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏
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译：GB/T 14145-1993 Test method for stacking fault density of epitaxial layers of silicon by interference-contrast microscopy【国际标准分类号(ICS)】 ：49.090机上设备和仪器 【中国标准分类号(CCS)】 ：H24金相检验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏
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译：YY 0108-1993 M-type pulse reflection ultrasonic diagnostic device【国际标准分类号(ICS)】 ：暂无 【中国标准分类号(CCS)】 ：暂无发布单位或类别：(CN-YY)行业标准-医药 | 发布时间： 1993-02-10 | 实施时间： 1993-05-01收藏
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译：YY 0115-1993 Disposable blood collection device【国际标准分类号(ICS)】 ：暂无 【中国标准分类号(CCS)】 ：C44医用化验设备发布单位或类别：(CN-YY)行业标准-医药 | 发布时间： 1993-02-10 | 实施时间： 1993-05-01收藏
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译：GB/T 14140.2-1993 Silicon slices and wafers—Measuring of diameter—Micrometer method【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏
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译：GB/T 14146-1993 Silicon epitaxial layers—Determination of carrier concentration—Mercury probe Valtage-capacitance method【国际标准分类号(ICS)】 ：77.120有色金属 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-02-06 | 实施时间： 1993-10-01收藏
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