国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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现行
译：T/CNIA 0061-2020 Determination of impurity content in silicon epitaxy using inductively coupled plasma mass spectrometry适用范围：主要技术内容:本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 ：L90/94电子设备与专用材料、零件、结构件发布单位或类别：(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间： 2020-05-27 | 实施时间： 2020-08-01收藏