适用范围：GB/T 26153的本部分规定了喷涂用离线编程式机器人柔性加工的系统型号表述、系统体系及特性、系统应用、试验方法、检验规则、产品说明书、标志、包装、运输、贮存。 本部分适用于喷涂用离线编程式机器人柔性加工系统(以下简称系统)。

适用范围：GB/T 25753的本部分规定了测量罗茨真空泵噪声的声学环境、测量仪器、泵的安装、负载和运行条件，以及声功率级的测量。 本部分适用于罗茨真空泵（以下简称罗茨泵）。

适用范围：GB/T 26332规定了在光学元器件及基片表面镀制的光学薄膜的应用功能分类、技术指标的标准表述形式、常规特性及试验测量方法，但不拟用于规定镀制方法。本部分规定了光学薄膜的使用条件分类，并确定了为证明光学薄膜满足技术要求所需要进行的环境试验。试验的术语和范围已在ISO 90221中给出。本部分不适用于眼科光学（眼镜）的光学薄膜。

适用范围：GB/T 26332规定了在光学元器件及基片表面镀制的光学薄膜的应用功能分类、技术指标的标准表述形式、常规特性及试验测量方法，但不拟用于规定镀制方法。本部分规定了在GB/T 26332.3中提到的光学薄膜环境适应性试验方法，这些方法在GB/T 12085-2010标准中没有描述。这些方法通常与GB/T 26332.3-2015附录A中的测试方法组成试验序列共同使用。本部分不适用于眼科光学（眼镜）的光学薄膜。

适用范围：1.1 本标准规定了使用全反射X光荧光光谱定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片)尤其适用于硅片清洗后自然氧化层或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定测定范围为109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2。本标准同样适用于其他半导体材料如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。 1.2 对良好的镜面抛光表面可探测深度约5nm分析深度随表面粗糙度的改善而增大。 1.3 本方法可检测元素周期表中原子序数16(S)~92(U)的元素尤其适用于测定以下元素：钾、钙、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、砷、钼、钯、银、锡、钽、钨、铂、金、汞和铅。 1.4 本方法的检测限取决于原子序数、激励能、激励X射线的光通量、设备的本底积分时间以及空白值。对恒定的设备参数无干扰检测限是元素原子序数的函数其变化超过两个数量级。重复性和检测限的关系见附录A。 1.5 本方法是非破坏性的是对其他测试方法的补充与不同表面金属测试方法的比较及校准样品的标定参见附录B。

适用范围：GB/T 24809的本部分规定了流动式起重机（以下简称“起重机”)机构的特殊要求，起重机机构的基本要求见ISO 109721。这些特殊要求包括：a)机构的总体布置、特征与特性；b)某些机构零部件的基本要求。 本部分不包括各种极限状态（如屈服强度、疲劳、磨损等)的能力验算规则。

适用范围：GB/T 26790的本部分定义了基于IEEE STD 802.112012射频（RF）的WIAFA（Wireless Networks for Industrial Automation Factory Automation）系统结构与通信规范。 本部分适用于工厂自动化测量、监视与控制的无线网络系统。

适用范围：GB/T 26332规定了在光学元器件及基片表面镀制的光学薄膜的应用功能分类、技术指标的标准表述形式、常规特性及试验测量方法，但不拟用于规定镀制方法。本部分规定了如何表述光学薄膜的光学特性以及如何图示其光谱特性。本部分不适用于眼科光学(眼镜)的光学薄膜。

适用范围：GB/T 26790的本部分定义了WIA—PA设备加入过程、运行过程、离开过程和网络安全的测试规范。 本部分适用于基于WIA—PA的工业过程测量、监视与控制的无线网络设备。

适用范围：GB/T 24682的本部分规定了按照ISO 22866进行大田作物喷雾机飘移沉积量的田间测量时的飘移分级规程，包括测试方法和所需评价准则。本部分也用于确定ISO 223691规定的喷雾防飘率分级。 本部分通过与基准喷雾系统的对比确定大田作物喷雾机的防飘性能，并据此对大田作物喷雾机进行定等（分级）。本部分的应用可为农民、产品开发、法定认证以及分级方案提供咨询服务。 本部分与ISO 22369-1配合使用。 本部分适用于悬挂式、牵引式和自走式的大田作物喷雾机。