19 试验
65 农业
  • GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量 被代替
    译:GB/T 14849.4-2008 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
    适用范围:本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定,测定范围见表1。
    【国际标准分类号(ICS)】 :77.120.10铝和铝合金 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2008-06-09 | 实施时间: 2008-12-01