19 试验
65 农业
77 冶金
  • GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法 现行
    译:GB/T 19444-2004 Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
    【国际标准分类号(ICS)】 :29.040.01绝缘流体综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H26金属无损检验方法
    发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2004-02-05 | 实施时间: 2004-07-01