GB/T 26332.1-2010 光学和光学仪器 光学薄膜 第1部分:定义
GB/T 26332.1-2010 Optics and optical instruments—Optical coatings—Part 1:Definitions
基本信息
本部分定义了与光学薄膜相关的术语。这些术语分为4类:基本定义、按功能定义薄膜、常见的薄膜缺陷定义和其他定义。
发布历史
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2011年01月
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2018年03月
-
2024年09月
研制信息
- 起草单位:
- 沈阳仪表科学研究院、沈阳汇博光学技术有限公司、浙江大学、杭州科汀光学技术有限公司、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、杭州照相机械研究所
- 起草人:
- 阴晓俊、费书国、高鹏、王瑞生、赵帅锋、章岳光、顾培夫、马敬、金秀、杨文华、徐秋玲、杜健、虞仲晓
- 出版信息:
- 页数:12页 | 字数:20 千字 | 开本: 大16开
内容描述
ICS17.180
N30
a雪
中华人民共和国国家标准
921
1-1:1994
GB/T26332.1m2010/ISO
光学和光学仪器光学薄膜
第1部分:定义
and
Opticsopticalinstruments--Opticalcoatings--
Part
1:Definitions
(IS09211—1:1994,IDT)
201
1-01-14发布
宰瞀鳃紫瓣警糌瞥翼发布中国国家标准化管理委员会促19
9211—1:1994
cB/'r26332.1—2010/ISO
目次
前言…………·……·······…··……………”Ⅲ
1范围………………………1
2规范性引用文件………………··…·…···…···…·…………·………·…1
3术语和定义……………···1
4按功能定义薄膜…………·…·…………-4
5常见的薄膜缺陷定义…………………···5
6其他定义…………………6
附录A(资料性附录)常见薄膜缺陷类型图解…………8
9211-1:1994
GB/T26332.1—2010/iso
刖置
GB/T
26332《光学和光学仪器光学薄膜》分为4个部分:
——第1部分:定义
——第2部分:光学特性
——第3部分:环境适应性
——第4部分:规定的试验方法
本部分为Gg/T26332的第1部分。
本部分等同采用ISO9211—1:1994(光学和光学仪器光学薄膜第1部分:定义》(英文版)。
本部分采用国际标准的方法为翻译法。
本部分的附录A为资料性附录。
本部分由中国机械工业联合会提出并归口。
本部分起草单位:沈阳仪表科学研究院、沈阳汇博光学技术有限公司、浙江大学、杭州科汀光学技术
有限公司、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、杭州照相机械研究所。
本部分主要起草人:阴晓俊、费书国、高鹏、王瑞生、赵帅锋、章岳光、顾培夫、马敬、金秀、杨文华、
徐秋玲、杜健、虞仲晓。
Ⅲ
26332.1—2010/璐o921I-I:1994
GB/T
光学和光学仪器光学薄膜
第1部分:定义
1范围
GB/T26332的本部分叙述了除眼科光学(眼镜)之外的所有镀膜的光学元器件及基片的镀膜表
面,并制定了相关参数的标准表述,定义了表面特性参数及其检验、检测方法,而不说明其加工方法。
本部分定义了与光学薄膜相关的术语。这些术语分为4类:基本定义、按功能定义薄膜、常见的薄
膜缺陷定义和其他定义。
2规范性引用文件
26332的本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文
下列文件中的条款通过GB/T
件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本部分,然而,鼓励根据本部分达成
协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本
部分。
10110—7:1996,NEQ)
GB/T1185--2006光学零件表面疵病(IsO
GB
3102.6—1993光及有关电磁辐射的量和单位
GB/T6286:1982,NEQ)
8322--2008分子吸收光谱法术语(ISO
ISO9211—4:2006光学和光学仪器光学薄膜第4部分:规定的试验方法
ISO10110—8:1997光学和光学仪器光学元件和系统制图准备第8部分:表面结构
IEC50(845):1987国际电工词汇845章:照明
Publication
CIE38:1977材料的辐射测量和光度特性及相应测量方法
3术语和定义
下列术语和定义适用于本部分。
treatment
3.1镀膜表面surface
3.1.1
ofandsubstrates
treatment
元件和基片的镀膜表面surfacecomponents
在光学元件表面“镀膜”,能够改变光学元件的光学、物理或化学特性。作为所镀薄膜载体的光学元
件称为“基片”。
理想的基片是几何完美和光学均质的,应将基片及其表面作为一个整体进行检验测量。
光在镀膜表面的透射与反射方向是由光学薄膜、入射介质及出射介质共同决定的。
3.1.2
medium
入射介质incident
光射人薄膜前经过的介质。
3.1.3
medium
出射介质emergent
光射出薄膜后进入的介质。
注:镀有薄膜的基片可以是人射介质也可以是出射介质,区别在于光通过基片和薄膜的先后顺序。
】
9211-1:1994
GB/T26332.1—2010/ISO
3.2
ofUcoatedsurface
镀膜表面的光学特性opticalproperties
镀膜表面的光学特性可以用分光光度值来描述,它与电磁波传播的辐射能(辐射或发光)相关,并为
波长、入射角、偏振态、空间分布(例如,散射)的函数。
注;波长(^)可用波数(一)代替。建议波长单位为纳米(nm)或微米(卢m)
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