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DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法

DB35/T 1146-2011 Determination of impurity element content in silicon materials using glow discharge mass spectrometry

福建省地方标准 简体中文 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
DB35/T 1146-2011
标准类型
福建省地方标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H80/84 半金属与半导体材料
国际标准分类号（ICS）
29.045 半导体材料
发布日期
2011-04-10
实施日期
2011-07-10
发布单位/组织
福建省质量技术监督局
归口单位
中国科学院福建物质结构研究所
适用范围
本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法（G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的测定

发布历史

文前页预览

DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法-第1页
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法-第2页
DB35/T 1146-2011 硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法-第3页

研制信息

起草单位：
中国科学院福建物质结构研究所
起草人：
黄丰，吕佩文，陈伦泰，王永好，林璋，黄瑾
出版信息：
页数：12页 | 字数：- | 开本： -

内容描述

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