国际标准分类(ICS)
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现行
译：YS/T 980-2014 Determination of impurities of high purity gallium oxide—Inductively coupled plasma-mass spectrmetry适用范围：本标准规定了高纯三氧化二镓中杂质元素含量的测定方法。 本标准适用于高纯三氧化二镓中钠、镁、钙、钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、锡、铅、铟含量的测定。各元素测定范围为(1×10-6)%~(4×10-5)%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏 -
现行
译：YS/T 981.1-2014 Methods for chemical analysis of high purity indium—Determination of magnesiumaluminumsiliconsulphurironnickelcopperzinc,arsenic,silver,cadmium,tin,thallium,lead content—High mass resolution glow discharge mass specrometry适用范围：YS/T 981的本部分规定了采用高质量分辨率辉光放电质谱法测定99.999%以上高纯铟中镁、铝、硅、硫、铁、镍、铜、锌、砷、银、镉、锡、铊、铅元素含量的方法。 本部分适用于高纯铟中镁、铝、硅、硫、铁、镍、铜、锌、砷、银、镉、锡、铊、铅的测定各元素测定范围为5.0×10-7%~1.0×10-3%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 981.3-2014 Methods for chemical analysis of high pure indium—Determination of silicon content—Molybdenum blue spectrophotometric method适用范围：YS/T 981的本部分规定了高纯铟中硅含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中硅含量的测定。测定范围为5×10-5%~2×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 983-2014 Test method for measuring composition of polysilicon deposition reactor and TCS to STC converter vent gas适用范围：本标准规定了多晶硅还原炉和氢化炉尾气成分的测定方法。 本标准适用于改良西门子法工艺还原炉和氢化炉尾气成分（氢气、氯化氢、三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅）的测定。检测范围为体积分数0.1%～100%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 986-2014 Specification for serial alphanumeric marking of the front surface of wafers适用范围：本标准定义了标记包括字母数字的几何尺寸和空间位置尤其适用于带参考面和带缺口的硅抛光片。 本标准不涉及制作标记的技术。【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H80/84半金属与半导体材料发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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废止
译：YS/T 982-2014 Carbon/carbon U shape heating element of hydrogenation furnace适用范围：本标准规定了氢化炉用碳/碳复合材料U形发热体的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于多晶硅生产领域氢化炉用碳/碳复合材料U形发热体。【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H83化合物半导体材料发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 985-2014 Polished reclaimed silicon wafers适用范围：本标准规定了硅抛光回收片的要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于用户提供的或来源于第三方的硅回收片(主要包括100 mm、125 mm、150 mm和200 mm单面或双面抛光硅片、未抛光硅片或外延硅片)经单面抛光制备的硅抛光片。产品主要用于机械、炉处理、颗粒和光刻中的监控片。另外使用方需注意硅回收片的热历史、体沾污和表面沉积物情况。【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H80/84半金属与半导体材料发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 984-2014 Determination of boron and phosphorus concent in silicon powder by chemical analysis适用范围：本标准规定了硅粉中硼含量、磷含量的测定方法。 本标准适用于硅粉中硼含量、磷含量的测定。测定范围为硼 0.000 10％～0.010 00％，磷 0.000 50％～0.015 00％。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 981.4-2014 Method for chemical analysis of high pure indium—Determination of tin content—Benzfluorenone-cetyltrimethylammonium bromide spectrophotometric method适用范围：YS/T 981的本部分规定了高纯铟中锡含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中锡含量的测定。测定范围为5×10-5%~2×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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现行
译：YS/T 981.5-2014 Methods for chemical analysis of high pure indium—Determination of thallium content—Rhodamine B spectrophotometric method适用范围：YS/T 981的本部分规定了高纯铟中铊含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中铊含量的测定。测定范围为5×10-5%~3×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2014-10-14 | 实施时间： 2015-04-01收藏
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