国际标准分类(ICS)
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废止译:YS/T 982-2014 Carbon/carbon U shape heating element of hydrogenation furnace适用范围:本标准规定了氢化炉用碳/碳复合材料U形发热体的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于多晶硅生产领域氢化炉用碳/碳复合材料U形发热体。【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 980-2014 Determination of impurities of high purity gallium oxide—Inductively coupled plasma-mass spectrmetry适用范围:本标准规定了高纯三氧化二镓中杂质元素含量的测定方法。 本标准适用于高纯三氧化二镓中钠、镁、钙、钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、锡、铅、铟含量的测定。各元素测定范围为(1×10-6)%~(4×10-5)%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 985-2014 Polished reclaimed silicon wafers适用范围:本标准规定了硅抛光回收片的要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。 本标准适用于用户提供的或来源于第三方的硅回收片(主要包括100 mm、125 mm、150 mm和200 mm单面或双面抛光硅片、未抛光硅片或外延硅片)经单面抛光制备的硅抛光片。产品主要用于机械、炉处理、颗粒和光刻中的监控片。另外使用方需注意硅回收片的热历史、体沾污和表面沉积物情况。【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H80/84半金属与半导体材料发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 983-2014 Test method for measuring composition of polysilicon deposition reactor and TCS to STC converter vent gas适用范围:本标准规定了多晶硅还原炉和氢化炉尾气成分的测定方法。 本标准适用于改良西门子法工艺还原炉和氢化炉尾气成分(氢气、氯化氢、三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅)的测定。检测范围为体积分数0.1%~100%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 981.5-2014 Methods for chemical analysis of high pure indium—Determination of thallium content—Rhodamine B spectrophotometric method适用范围:YS/T 981的本部分规定了高纯铟中铊含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中铊含量的测定。测定范围为5×10-5%~3×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 981.3-2014 Methods for chemical analysis of high pure indium—Determination of silicon content—Molybdenum blue spectrophotometric method适用范围:YS/T 981的本部分规定了高纯铟中硅含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中硅含量的测定。测定范围为5×10-5%~2×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 979-2014 High purity gallium oxide适用范围:本标准规定了高纯三氧化二镓的要求、检验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容等。 本标准适用于以高纯镓为原料经氧化和粉末工艺制得的纯度为99.999 5%和99.999 9%的高纯三氧化二镓。产品供制备白光LED用的荧光粉、三钆石榴石(GGG晶体)和其他材料。【国际标准分类号(ICS)】 :29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 :H83化合物半导体材料发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 984-2014 Determination of boron and phosphorus concent in silicon powder by chemical analysis适用范围:本标准规定了硅粉中硼含量、磷含量的测定方法。 本标准适用于硅粉中硼含量、磷含量的测定。测定范围为硼 0.000 10%~0.010 00%,磷 0.000 50%~0.015 00%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 981.4-2014 Method for chemical analysis of high pure indium—Determination of tin content—Benzfluorenone-cetyltrimethylammonium bromide spectrophotometric method适用范围:YS/T 981的本部分规定了高纯铟中锡含量的测定方法。 本部分适用于99.999 9%高纯铟中锡含量的测定。测定范围为5×10-5%~2×10-4%。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏
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现行译:YS/T 981.2-2014 Methods for chemical analysis of high purity indium—Determination of magnesium,aluminum,iron,nickel,copper,zinc,silver,cadmium,tin and lead—Inductively coupled plasma mass spectrometry适用范围:YS/T 981的本部分规定了99.999%~99.999 9%高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅元素含量的测定方法。 本部分适用于高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅含量的测定。各元素的测定范围见表1。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间: 2014-10-14 | 实施时间: 2015-04-01收藏