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现行译:GB/T 39145-2020 Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry适用范围:本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。 本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定,测定范围为108 cm-2~1013 cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。 注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。【国际标准分类号(ICS)】 :77.040金属材料试验 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-GB)国家标准 | 发布时间: 2020-10-11 | 实施时间: 2021-09-01收藏
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