国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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现行
译:T/CSTM 01099-2024 Nickel-based high-temperature alloy determination of trace elements by glow discharge mass spectrometry适用范围:范围:本文件规定了采用辉光放电质谱(GD-MS)法测定镍基变形高温合金中痕量元素的方法,包含原理、试验条件、试剂和材料、仪器设备、样品、试验步骤、试验数据处理、精密度检验、正确度评定、不确定度评定、质量保证和控制、试验报告。 本文件适用于镍基变形高温合金中痕量元素的测定,分析元素种类及分析范围见表1。定量元素及半定量元素种类、测定上限可根据校准样品中元素的种类及含量范围适当调整; 主要技术内容:本文件规定了采用辉光放电质谱(GD-MS)法测定镍基变形高温合金中痕量元素的方法,包含原理、试验条件、试剂和材料、仪器设备、样品、试验步骤、试验数据处理、精密度检验、正确度评定、不确定度评定、质量保证和控制、试验报告。本文件适用于镍基变形高温合金中痕量元素的测定,分析元素种类及分析范围见表1。定量元素及半定量元素种类、测定上限可根据校准样品中元素的种类及含量范围适当调整【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 :H10/19金属化学分析方法发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2024-10-31 | 实施时间: 2025-01-31收藏 -
现行
译:T/CNIA 0064-2020 Determination of Impurity Content in Durable Silicon Wipes for the Polysilicon Industry Using Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy (ICP-AES)适用范围:主要技术内容:本标准规定了多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定方法。本标准适用于多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定,测定范围为0.10 μg/g~10.00 μg/g【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H10/19金属化学分析方法发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2020-05-27 | 实施时间: 2020-08-01收藏 -
现行
译:T/CNIA 0012-2019 Determination of Boron, Phosphorus, Iron, Aluminum, Calcium, and Titanium Content in Silica Fume by Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy适用范围:主要技术内容:本标准规定了多晶硅生产用硅粉中硼、磷、铁、铝、钙、钛含量的测定方法。本标准适用于多晶硅生产用硅粉中硼、磷、铁、铝、钙、钛含量的测定【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H10/19金属化学分析方法发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2019-02-13 | 实施时间: 2019-06-01收藏 -
现行
译:T/CNIA 0015-2019 The determination of silicon dust content in exhaust gas from particle silicon production适用范围:主要技术内容:本标准规定了颗粒硅生产尾气中硅尘含量的测定方法。本标准适用于颗粒硅生产尾气中硅尘含量的测定【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H10/19金属化学分析方法发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2019-02-13 | 实施时间: 2019-06-01收藏 -
现行
译:T/CNIA 0017-2019 Determination of Impurity Content in Polysilicon Using Chlorosilane by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS)适用范围:主要技术内容:本标准规定了多晶硅用氯硅烷中杂质(硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠)含量的电感耦合等离子体质谱测定方法。本标准适用于多晶硅用氯硅烷中杂质(硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠)含量的测定,测定范围为0 μg/L ~1000 μg/L【国际标准分类号(ICS)】 :77.040.01金属材料试验综合 【中国标准分类号(CCS)】 :H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别:(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间: 2019-02-13 | 实施时间: 2019-06-01收藏