国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
-
现行
译：T/ICMTIA 5.2-2020 ArF immersion photomask for integrated circuits适用范围：范围:本文件适用于集成电路用ArF浸没式光刻胶; 主要技术内容:本文件规定了ArF浸没式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：G64高纯试剂、高纯物质发布单位或类别：(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间： 2020-12-31 | 实施时间： 2021-03-01收藏 -
现行
译：T/ICMTIA 5.3-2020 The method of inspecting ArF photoresist used in integrated circuits using optical lithography适用范围：范围:本文件适用于集成电路用ArF光刻胶; 主要技术内容:本文件规定了ArF光刻胶的光刻检测要求及方法、检测标准及包装、运输、存储及环保要求【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：G64高纯试剂、高纯物质发布单位或类别：(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间： 2020-12-31 | 实施时间： 2021-03-01收藏
-
现行
译：T/ICMTIA 5.1-2020 ArF dry photoresist used in integrated circuits适用范围：范围:本文件适用于集成电路用 ArF 干式光刻胶; 主要技术内容:本文件规定了 ArF 干式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储要求【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：G64高纯试剂、高纯物质发布单位或类别：(CN-TUANTI)团体标准 | 发布时间： 2020-12-31 | 实施时间： 2021-03-01收藏