国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
-
- 暂无内容
- 请重新选择[分类]、[状态]、[年份]
为您推荐您可能感兴趣的内容：
-
被代替
译：GB/T 6619-1995 Test methods for bow of silicon slices【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏 -
被代替
译：GB/T 469-1995 Lead ingots【国际标准分类号(ICS)】 ：77.120.60铅、锌、锡及其合金 【中国标准分类号(CCS)】 ：H62重金属及其合金发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 6620-1995 Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 6617-1995 Test method for measuring resistivity of silicon wafers using spreading resistance probe【国际标准分类号(ICS)】 ：77.120有色金属 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 6616-1995 Test method for measuring resistivity of semiconductor silicon or sheet resistance of semiconductor films with a noncontact eddy-current gage【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 4058-1995 Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers【国际标准分类号(ICS)】 ：77.040.30金属材料化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：H26金属无损检验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 6618-1995 Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 5230-1995 Electrodeposited copper foil【国际标准分类号(ICS)】 ：77.120.30铜和铜合金 【中国标准分类号(CCS)】 ：H62重金属及其合金发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 4436-1995 Wrought aluminium and aluminium alloy tubes—Dimensions and deviations【国际标准分类号(ICS)】 ：23.040.15有色金属管 【中国标准分类号(CCS)】 ：H61轻金属及其合金发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
-
被代替
译：GB/T 6621-1995 Test methods for surface flatness of silicon polished slices【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H21金属物理性能试验方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1995-04-18 | 实施时间： 1995-12-01收藏
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替
被代替