国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
29 电气工程
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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译：GB/T 20175-2006 Surface chemical analysis—Sputter depth profiling—Optimization using layered system as reference materials适用范围：为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的，本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质，提供优化溅射深度剖析参数的指南。 特殊多层膜系（如各种掺杂层膜系）的使用不包括在本标准内。【国际标准分类号(ICS)】 ：71.040.40化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：N33电子光学与其他物理光学仪器发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 2006-03-27 | 实施时间： 2006-11-01收藏 -
现行
译：GB/T 20176-2006 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials适用范围：本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。【国际标准分类号(ICS)】 ：71.040.40化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：N33电子光学与其他物理光学仪器发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 2006-03-27 | 实施时间： 2006-11-01收藏
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现行
译：GB/T 10248-2005 Gas analysis—Preparation of calibration gas mixtures—Static volumetric methods【国际标准分类号(ICS)】 ：71.040.40化学分析 【中国标准分类号(CCS)】 ：N30/39光学仪器发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 2005-05-18 | 实施时间： 2005-12-01收藏
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