适用范围：本部分规定了长霉试验用的菌种，试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本部分不适用于常规生产检查。 本试验目的是研究长霉对试样的光学、化学、机械和电气的工作性能的影响程度，以及估价霉菌代谢产物（比如酶或酸性物质）导致对零件的腐蚀程度或引起线路板的短路等严重程度。

适用范围：本部分规定了滴水、淋雨试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是研究试样的光学、热学、机械学、化学和电学特性受到滴水、淋雨影响的变化程度。

适用范围：本部分规定了高压、低压、浸没试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的为研究试样的光学、热学、力学、化学和电学等特性受到环境气体高压、低压或水浸没影响的变化程度。

适用范围：本部分规定了低温与低气压综合试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于在高山地区或飞机仪表盘上或导弹上使用的光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是研究试样的光学、热学、化学和电学等特性受到低温与低气压影响的变化程度，包括测定水的冷凝和冻结对仪器或零部件的附加影响

适用范围：本部分规定了污染试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分中所指的“污染”的含义是腐蚀性化学物质1）(以下称试剂）同光学仪器的接触。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。

适用范围：本部分规定了弹跳或恒加速度与高温或低温综合试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验 标记。

适用范围：本部分规定了太阳辐射试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于露天操作、储存或在相对较低气压中存放的光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是研究试样的光学、热学、力学、化学和电学等特性受到太阳辐射影响的变化程度。

适用范围：本部分规定了振动(正弦)与高温、低温综合试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是研究试样的光学、热学、化学和电气等性能受振动(正弦)与高温、低温的影响时的变化程度。

适用范围：本部分规定了盐雾试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。                     本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是尽早对仪器表面和保护涂(镀)层抵抗盐雾的能力进行评估。

适用范围：本部分规定了露、霜、冰试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验的目的是研究试样的光学、热学、机械和电器等特性受露、霜、冰的影响的程度。

适用范围：本部分规定了冲击、碰撞或自由跌落与高温、低温综合试验的试验条件、条件试验、试验程序及环境试验标记。 本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。 本试验目的是研究试样的光学、热学、力学、化学和电学性能受到冲击、碰撞或自由跌落与高温、低温影响变化的程度。

适用范围：本部分规定了环境试验方法的术语和定义、试验程序及环境试验标记。                     本部分适用于光学仪器、装有光学零部件的仪器和光学零部件。

适用范围：本标准规定了光学制图的一般规定、图样要求及尺寸、公差标注。本标准适用于光学系统、光学部件和光学零件图样的绘制。

适用范围：本标准规定了光学基本术语，几何光学、物理光学、像质评定、光学零部件及工艺、光学仪器名称、光学测量及产品技术要求等方面的术语共1 028条。 本标准适用于光学仪器标准制定、技术文件编制、教材和书刊编写及文献翻译等。 注： 本标准中方括号［ ］内的词为可省略词；圆括号（ ）内，用作说明。

适用范围：本标准规定了偏光显微镜基本参数、要求、试验方法、检验规则、标志、包装及运输贮存。本标准适用于机械筒长为160 mm或无限远系统的各类偏光显微镜。

适用范围：本标准规定了光学零件材料气泡度的术语和定义、公差、分解、标注和试验方法。 本标准适用于光学零件的材料在加工过程中产生的气泡及其杂质。

适用范围：本标准规定了光学零部件面形偏差的术语和定义、公差及检验方法。本标准适用于使用光学样板的等厚干涉方法及干涉仪方法检验光学零部件的面形偏差。

适用范围：GB/T 4315的本部分规定了成像系统光学传递函数(OTF)测量装置结构和用途的通用导则。本部分叙述了可能影响OTF测量的各个重要因素，同时规定了测量装置性能要求和环境控制的一般规则。本部分规定了为保证精确测量所必须注意的要点，以及测得数据的修正因子。本部分所描述的光学传递函数测量装置，限制在分析被测光学成像系统像平面上的辐射分布。这些装置不包括以干涉仪为基础的仪器。

适用范围：本标准规定了以杂光系数和杂光分布函数来评价光学和电子光学成像系统杂光特性以及杂光系数和杂光分布函数测量的方法和结果表达方式。 本标准适用于可见光谱区域内使用的光学系统，对邻近光谱区域内使用的系统可参照使用。  

适用范围：GB/T 4315的本部分根据成像系统的光学传递函数与点扩散函数之间的关系,规定了与光学传递函数有关的术语以及它们之间的数学关系,也规定了在光学传递函数测量中需说明的各个重要参数。 本部分适用于所有光、电光和其他成像系统的光学传递函数测量。