国际标准分类(ICS)
19 试验
25 机械制造
31 电子学
37 成像技术
45 铁路工程
61 服装工业
65 农业
67 食品技术
71 化工技术
77 冶金
79 木材技术
85 造纸技术
93 土木工程
95 军事工程
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现行
译：YS/T 1160-2016 Silicon powder-quantitative phase analysis—Determination of silicon dioxide content—Value K method of X-ray diffraction适用范围：本标准规定了工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法。 本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定，测定范围为≥1%。【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H12轻金属及其合金分析方法发布单位或类别：(CN-YS)行业标准-有色金属 | 发布时间： 2016-07-11 | 实施时间： 2017-01-01收藏 -
现行
译：GB/T 26067-2010 Standard test method for dimensions of notches on silicon wafers适用范围：1.1本标准定性的提供了判定硅片基准切口是否满足标准限度要求的非破坏性测试方法。本方法的测试原理同样适用于其他切口尺寸的测量。 1.2本标准中物体平面尺寸为0.1mm时，通过20倍的放大后会在投影屏上形成2.0mm的影像，通过50倍放大后会产生5.0mm的投影。本方法可以发现切口轮廓上的最小尺寸细节。 1.3本标准不提供切口顶端的曲率半径的测试。【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 2011-01-10 | 实施时间： 2011-10-01收藏
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被代替
译：GB/T 14849.3-1993 Silicon metal—Determination of calcium content【国际标准分类号(ICS)】 ：29.045半导体材料 【中国标准分类号(CCS)】 ：H17半金属及半导体材料分析方法发布单位或类别：(CN-GB)国家标准 | 发布时间： 1993-12-24 | 实施时间： 1994-09-01收藏
现行
现行
被代替